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武汉离子氮化炉​在真空中的工艺规范

信息来源:https://www.hbbkfhm.com/ 作者:离子氮化炉公司 发布时间:2021-03-11 14:31

武汉离子氮化炉是在真空容器中使含氮稀薄气体在直流电场中电离,正离子轰击金 属零件表面形成氮化层,以达到表面硬化的设备。今天,小编就介绍它的操作流程和工艺规范要求,都来了解一下吧!


渗氮层随时间的延长而增厚,初期增长率大,以后渐趋缓慢,一般渗速在0.01mm/h左右

  

随保温时间延长,氮化物聚集长大,硬度下降。温度越高,时间越长,长大越厉害


合髙压(工作电压电阻器在零部位)通冷却循环水。电阻器挡位为打弧挡位。打弧挡位阻值加很大,根据的电流量小,提温当电阻较小,根据的电流量大。打弧挡位的电流量通常为额定电压的五分之一上下。


迟缓调整电阻器至须部位,至炉内起辉炉内钢件清打弧工作中。不能使炉内打弧强烈。


挥发率为20 一40 %时氮原子多,零件表面可大量吸收氮

  

挥发率超过60 %则气氛中的氢含量高达52%以上,将产生脱氮作用,此时不仅氮原子数量减小,而且大量氢分子和氮分子停滞于零件表面附近,使氮原子不易为表面所吸收,从而使零件表面含氮量降低,渗氮层深也减薄。氮化前应对加热炉、氮化罐和整个氮化系统的管道接头处进气密性检查,保证氨气不漏和在管路中的畅无阻。


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